Photosensibel, wässrig alkalisch entwickelbar

Photosensible, negativ arbeitende Lötstoppmasken. Erhältlich als Giess-, Siebdruckprodukt oder Sprühprodukt, halogenfrei oder -haltig in verschiedenen Farben und Oberflächen. Die Entwicklung erfolgt in wässrig-alkalischen Lösungen.

Carapace® EMP110 DI >

Photosensitive, wässrig-alkalisch entwickelbare Lötstoppmaske von Electra für Siebdruck- und Sprühapplikationen für alle Direktbelichtungsverfahren. Als glänzende oder matte Version in mehreren Farben…

Carapace® EMP110 HD >

Photosensitive, wässrig-alkalisch entwickelbare Lötstoppmaske von ELECTRA für Siebdruck-, Gieß- und Sprühapplikationen. Als glänzende oder matte Version in mehreren Farben, Helligkeitsstufen…

Huntsman Probimer 77 >

Probimer 77 ist ein photostrukturierbarer, negativ arbeitender Isolier- und Lötstopplack. Dieser hat eine semimatte Oberfläche. Das System bietet eine hohe…